Curso Básico de Pedido de Patente e Registro de Desenho Industrial
08 de março de 2006
Promovido pela Anpei e INPI, objetivo é ministrar técnicas de elaboração de patentes para incentivar pesquisadores a proteger invenções. Dias 23 e 24 de março, em São Paulo
Curso Básico de Pedido de Patente e Registro de Desenho Industrial
Promovido pela Anpei e INPI, objetivo é ministrar técnicas de elaboração de patentes para incentivar pesquisadores a proteger invenções. Dias 23 e 24 de março, em São Paulo
08 de março de 2006
Agência FAPESP - A Associação Nacional de Pesquisa, Desenvolvimento e Engenharia das Empresas Inovadoras (Anpei) e o Instituto Nacional da Propriedade Industrial (INPI) promovem, dias 23 e 24 de março, na capital paulista, o Curso Básico de Pedido de Patente e Registro de Desenho Industrial.
Na oportunidade, serão apresentados conhecimentos básicos sobre elaboração de patentes, de modo a incentivar pesquisadores e professores a proteger invenções para utilizá-las como fonte de informação e planejamento tecnológico.
Ministrado por representantes do INPI e da Anpei, o curso abordará temas como "O pedido de patentes", "Tipos de proteção e requisitos", "Legislação", "Atividade inventiva" e "O documento como fonte de informação".
Mais informações e inscrições: www.anpei.org.br/curso_basico.
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