As inscrições vão até 31 de janeiro (foto: UFSCar/divulgação)
Objetivo dos bolsistas será otimizar as condições de crescimento de filmes metálicos
Objetivo dos bolsistas será otimizar as condições de crescimento de filmes metálicos
As inscrições vão até 31 de janeiro (foto: UFSCar/divulgação)
Agência FAPESP – Uma vaga de doutorado e outra de mestrado – ambas com bolsa da FAPESP – estão disponíveis pelo projeto “Eletromigração em nanoestruturas”. As inscrições vão até 31 de janeiro.
O projeto é desenvolvido pelo Grupo de Supercondutividade e Magnetismo da Universidade Federal de São Carlos (UFSCar).
Os bolsistas vão otimizar as condições de crescimento de filmes metálicos, especialmente da liga de Pb-Sn. Participarão da construção de nanofios e avaliarão as propriedades supercondutoras dos dispositivos.
Mais informações sobre as vagas e as inscrições em: www.fapesp.br/oportunidades/7671/ e www.fapesp.br/oportunidades/7672/.
A Bolsa de Doutorado fornecida pela FAPESP tem duração de até 48 meses e valor mensal de R$ 5.520,00 no primeiro ano e R$ 6.810,00 no segundo. Um auxílio financeiro equivalente a 30% do valor anual da bolsa será concedido para despesas diretamente relacionadas às atividades de pesquisa. Os requisitos e benefícios estão disponíveis em fapesp.br/bolsas/dr.
Os requisitos e benefícios da Bolsa de Mestrado da FAPESP estão disponíveis no site www.fapesp.br/bolsas/ms.
Outras vagas de bolsas, em diversas áreas do conhecimento, estão no site FAPESP-Oportunidades, em www.fapesp.br/oportunidades.
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